標籤: EDA軟件

文：韋伯韜，在晶片發展的各個工序設備，如單晶矽片製造、擴散、薄膜生長、光刻、刻蝕、離子注入、拋光、金屬化、清洗、測試、封測，中國大陸多數已經快要成功超越，到達28nm、14nm的世界主流水平，有些甚至到了5nm、3nm，比如刻蝕機，處於全球先進水準、台積電採用的主流產品……